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超純水系統設備

簡要描述:超純水系統設備主要用途:
微電子產品生產用高純水,半導體、顯象管制造業用超純水,集成電路板生產清洗用超純水,蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產用水,本設備主要采用反滲透和EDI+拋光混床技術制備超純水。

  • 產品型號:KX4
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2022-06-29
  • 訪  問  量:489
詳細介紹
品牌其他品牌產地國產
產品新舊全新結構類型立式
產品大小中型自動化程度全自動
電導率0.1μS/cm電阻率18.2MΩ·cm

超純水系統設備主要用途:


微電子產品生產用高純水,半導體、顯象管制造業用超純水,集成電路板生產清洗用超純水,蓄電池、鋰電池、太陽能電池、干電池等生產用水,本設備主要采用反滲透和EDI+拋光混床技術制備超純水。


半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、大規模集成電路需用大量的超純水,超純水清洗半成品、成品,集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級,以區分不同水質。



超純水系統設備有如下優點:


①水質穩定;


②容易實現全自動控制;


③不會因ZS而停機;


④不需化學ZS;


⑤運行費用低;


⑥占地面積小;


⑦無污水排放;



為滿足用戶需要,達到符合標準的水質,盡可能地減少各級的污染,延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。

在工藝設計上,取達到國家自來水標準的水為源水,再設有介質過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統(EDI電除鹽系統)等。


系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法,使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。







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